Plasmapore®

Plasmapore® beschichtete Implantate werden seit 1986 mit Erfolg in der Endoprothetik eingesetzt. In einem Plasmabeschichtungsprozess wird unter Vakuum reines Titanpulver mit einer Dicke von 0.35 mm und einer Mikroporosität bis 40% auf die Oberfläche zementfreier Implantate aufgetragen.
Die Porengrößen der Plasmapore® Schicht liegen zwischen 50 und 200 μm und führen zu einer direkten Knochenapposition.
Die sehr rauhe Plasmapore® Struktur unterstützt die primär stabile Verankerung der Implantate besser als andere Oberflächen.
Alle zementfreien Aesculap Hüftschäfte und Hüftpfannen sind mit dieser Beschichtung versehen.
Als Material für Plasmapore® μ-CaP wird ein teilkristallines Calciumphosphat (CaP) eingesetzt. Das CaP wird mit einem elektrochemischen Prozess in hochreiner Form und in einer Schichtdicke von 15μm mit der Plasmapore® Oberfläche kombiniert. Die dünne μ-CaP Oberfläche beschleunigt die Knochenbildung an der Implantatoberfläche und resorbiert ohne Beteiligung von Makrophagen innerhalb von 8 bis 12 Wochen.
Der modulare Hüftrevisionsschaft Prevision® und die Kurzschaftprothese Metha® werden ausschließlich mit Plasmapore® μ-CaP angeboten.

Plasmapore® mit Dicalciumphosphat
Die bekannten Eigenschaften der Calciumphosphate HA (Hydroxylapatit), TCP (Tricalciumphosphat) und mögliche HA/TCP Mischungen führten zur Auswahl von Dicalciumphosphat-Dihydrat (CaHPO4 x 2H2O) für die Kombination mit Plasmapore®.
Das sehr gut lösliche Dicalciumphosphat-Dihydrat (DCPD) ist eine frühe Mineralisationsphase des Calciumphosphats. Beim Lösungspozess werden kontinuierlich Calcium- und Phosphationen abgegeben. Im Gegensatz dazu werden beim schwer löslichen Hydroxylapatit im wesentlichen Calciumionen der resorbierbaren CaO-Fremdphasen und nur wenige Phosphationen freigesetzt.
Das resorbierbare TCP wird durch Makrophagen abgebaut, und ist deshalb für die Beschichtung von Gelenkimplantaten ungeeignet.
Der Übergang zwischen primärer und sekundärer Implantatstabilität ist fließend und wird durch Ab- und Umbauvorgänge an der Implantatoberfläche bestimmt.
Die Plasmapore® μ-CaP Schicht unterstützt durch eine kontinuierliche Abgabe von Calcium- und Phosphationen den Um- und Neubau von Knochenstrukturen an der Knochen-Implantat-Grenzfläche. Gleichzeitig bieten die Poren der Plasmapore®-Schicht eine Verankerung für die Mineralisationsstrukturen.

Verbesserte Knochenapposition
Die Eigenschaften dünner Calciumphosphatschichten sind besonders in der direkt postoperativen Phase wichtig. In vivo wird die Dicalciumphosphat μ-CaP Schicht innerhalb von 8 bis 12 Wochen abgebaut. Dieser Prozess findet ohne eine Beteiligung von Makrophagen statt. Lösungsversuche zeigen die Ionenabgabe im Vergleich zu plasmabeschichteten Hydroxylapatitoberflächen (HA), bei denen in der Anfangsphase Calciumionen aus amorphen HA-Fremdphasen in Lösung gehen jedoch wenig Phosphationen. Bei Dicalciumphosphat (μ-CaP) werden während der gesamten Resorptionszeit Phosphat- und Calciumionen abgegeben und stehen für die Mineralisation zur Verfügung.
Der Knochen bildet durch die osteokonduktiven Eigenschaften des Dicalciumphosphats einen direkten Kontakt zur Implantatoberfläche.